尼康、阿斯麥、蔡司和解:未來十年互換0.8%光刻機收入
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在2年前尼康向ASML以及其合作伙伴蔡司發起法律訴訟,指二者在未經尼康允許將微影技術用於旗下光刻機,扯皮兩年多後,三方總算達成和解。
在2017年4月24日,尼康向ASML以及其合作伙伴蔡司發起法律訴訟, 指二者未經尼康允許下將微影技術(lithography)用在ASML的光刻機當中 ,要求二者賠償尼康損失,並停製出售具有該技術的光刻機。
ASML隨後否認了尼康的指控,並在幾天後起訴尼康,指後者在半導體生產裝置、平面顯示器和數碼相機生產裝置存在超過10項專利侵權,雙方進入扯皮階段。
在尼康起訴時ASML正如日中天,在高階光刻機市場份額超過9成,尼康則在光刻機市場節節敗退。只是風水流水,尼康在向中國市場出售光刻機後重振了業務,ASML在EUV極紫外光技術上舉步維艱,Intel甚至出售了ASML股票。
在這樣的背景下,三者終於達成了和解,按照三方諒解備忘錄,會撤銷在歐洲、日本和美國多地所有法律訴訟, ASML、蔡司向尼康支付1.5億歐元 ,從最終協議簽署當天起,尼康與ASML交換未來十年0.8%沉浸式光刻銷售收入。
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