打破壟斷，國家重大科研專案“超分辨光刻裝備專案”通過驗收

原標題：打破壟斷，國家重大科研專案“超分辨光刻裝備專案”通過驗收

近日，我國自研的國家重大科研裝備研製專案“超分辨光刻裝備研製”順利通過驗收。

該光刻機由中科院光電技術研究所研製，光刻分辨力達到了22納米，結合雙重曝光技術，未來還可以應用於製造10納米級別的晶片。

這次專案是在無國外經驗可借鑑的情況下，突破了高均勻性照明，超分辨光刻鏡頭，納米級分辨力檢焦及間隙測量，超精密、多自由度工件臺及控制等關鍵技術，並且我國擁有完全自主智慧財產權。

這一專案的順利實施，意味著我國在光刻機等領域長期落後的局面下，打破了國外的壟斷，也為納米光學加工提供了全新的解決途徑。