中國晶片研發新突破：全球首臺超分辨光刻裝備研製成功
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中國晶片終於有了一些好訊息！
11月29日，中科院光電技術研究所宣佈，其承擔的國家重大科研裝備研製專案“超分辨光刻裝備研製”通過驗收。
這是世界上首臺用紫外光源實現了22奈米解析度的光刻機。
據介紹，中科院光電所超分辨光刻裝備專案組經過近7年艱苦攻關，突破了多項關鍵技術，完成國際上首臺分辨力最高的紫外超分辨光刻裝備研製，其採用365奈米波長光源，單次曝光最高線寬分辨力達到22奈米，結合多重曝光技術後，可用於製造10奈米級別的晶片！
中科院理化技術研究所許祖彥院士等驗收組專家一致表示，該光刻機在365奈米光源波長下，單次曝光最高線寬分辨力達到22奈米。專案在原理上突破分辨力衍射極限，建立了一條高分辨、大面積的奈米光刻裝備研發新路線，繞過了國外相關智慧財產權壁壘。
據瞭解，該光刻機制造的相關器件已在中國航天科技集團公司第八研究院、電子科技大學太赫茲科學技術研究中心、四川大學華西醫院、中科院微系統所資訊功能材料國家重點實驗室等多家科研院所和高校的重大研究任務中取得應用。
光刻機為什麼這麼重要
毫無疑問，這是世界級的技術突破，因為隨著製作工藝的越來越精良，著某種意義上，晶片良品率取決定晶片佔有率。而晶片良品率取決於晶圓廠整體水平，但加工精度完全取決於核心裝置，即“光刻機”。
之前，我國在這一領域相對落後。它採用類似照片沖印的技術，把一張巨大的電路設計圖縮印到小小的晶片上，光刻精度越高，晶片體積可以越小，效能也可以越高。但由於光波的衍射效應，光刻精度終將面臨極限。
光刻機生產商中，荷蘭阿斯麥公司(ASML)工藝最強大，但是產量不高高，無論是臺積電、三星，還是英特爾，誰先買到阿斯麥的光刻機，誰就能率先具備7nm工藝。
阿斯麥是唯一的高階光刻機生產商，每臺售價至少1億美金，2017年只生產了12臺，2018年預計能產24臺，這些都已經被臺積電三星英特爾搶完了，2019年預測有40臺，其中一臺是給咱們的中芯國際。
之所以，光刻機不能進口，是因為英特爾有阿斯麥15%的股份，臺積電有5%，三星有3%，有些時候吧，錢不是萬能的。第二，美帝整了個《瓦森納協定》，敏感技術不能賣，中國、伊朗、利比亞均是被限制國家。
之前，2009年上海微電子的90奈米光刻機研製成功，後來中國開始攻關65nm光刻機，2015年美國允許65nm以上裝置銷售給中國。