2019年蘋果下一代iPhone XS不會放棄缺口設計

原標題：2019年蘋果下一代iPhone XS不會放棄缺口設計

今天是12月25日星期二聖誕節，蘋果有望在明年繼續推出三款新iPhone，預計不會進行任何重大的設計變更，這意味著蘋果的缺口設計將保留第三年。2020年的iPhone型號將根據三星目前正在做的事情進行螢幕重新設計。我們說的是沒有缺口的Infinity-O螢幕，但不要以為蘋果正準備簡單地複製三星的新智慧手機設計。這是因為蘋果在2016年提交了一項描述鑽孔技術的專利，早在iPhone X及其缺口設計之前。2019年的iPhone仍將有一個缺口，2020款將採用螢幕打孔設計。

雖然蘋果在推出之前已經很好地確定了下一代iPhone的設計，但對於2020年的iPhone來說可能還為時過早，蘋果的專利涉及在顯示屏中鑽孔相機孔所需的製造工藝的大量技術細節。蘋果沒有像三星這樣的顯示屏製造部門。但蘋果正在研究將在未來幾個月內實現的相同螢幕技術。儘管Galaxy S10的Infinity-O螢幕預計會更加複雜，但三星和華為都在過去幾周推出了帶攝像頭孔的顯示屏。此外，如果蘋果確實推進了2020年的全新設計，我們應該期待iPhone製造商能夠找到一種方法來保留iPhone上的面部識別功能，而不會出現缺口。

正如我們之前解釋的那樣，Galaxy S10螢幕打孔設計，但三星在其手機上沒有複雜的3D面部識別功能。面容ID有許多元件可以使它能夠正常工作，這需要在螢幕上打幾個孔。面容ID是蘋果公司在iPhone上採用缺口設計的原因，那是因為蘋果決定在2017年iPhone X上去掉觸控ID來增加手機的顯示屏尺寸。這意味著蘋果必須用至少一樣身份安全驗證安全的解鎖方式取代觸控ID。在過去的幾個月裡，蘋果確認其打算完全依賴面容ID進行使用者身份驗證解鎖，並且沒有新的iPhone或iPad專業版擁有指紋感測器。